Ohutkalvojen tunnistaminen atomivoimamikroskoopilla määritetyn kimmokertoimen avulla

Tässä työssä tutkin aiemmin vähän tutkittua menetelmää tutkia monikerroksisia ohutkalvoja. Menetelmä perustuu AFM:n avulla näytteestä mitattuun voimakäyrätietoon. Mittaukset koostuivat näytteiden valmistamisesta, sekä HIM:llä ja AFM:llä tapahtuneista kuvauksista. Työssäni tulen osoittamaan, että ohu...

Täydet tiedot

Bibliografiset tiedot
Päätekijä: Valjakka, Niklas
Muut tekijät: Matemaattis-luonnontieteellinen tiedekunta, Faculty of Sciences, Fysiikan laitos, Department of Physics, Jyväskylän yliopisto, University of Jyväskylä
Aineistotyyppi: Pro gradu
Kieli:fin
Julkaistu: 2023
Aiheet:
Linkit: https://jyx.jyu.fi/handle/123456789/87672
Kuvaus
Yhteenveto:Tässä työssä tutkin aiemmin vähän tutkittua menetelmää tutkia monikerroksisia ohutkalvoja. Menetelmä perustuu AFM:n avulla näytteestä mitattuun voimakäyrätietoon. Mittaukset koostuivat näytteiden valmistamisesta, sekä HIM:llä ja AFM:llä tapahtuneista kuvauksista. Työssäni tulen osoittamaan, että ohutkalvoista on mahdollista erottaa eri materiaalikerroksia menetelmän avulla. Menetelmässä on kuitenkin useita rajoituksia, jotka estävät menetelmän käyttöönoton käytännön sovelluksissa. In this work, I investigate a previously little studied method to study multilayer thin films. The method is based on force curve data measured from a sample using AFM. The measurements consisted of sample preparation, and imaging with HIM and AFM. In my work, I will show that it is possible to distinguish different material layers in thin films using this method. However, the method has several limitations that prevent its use in practical applications.