Characterization and Monte Carlo evaluation of positioning uncertainty of an MAFM
Nanometrin skaalan pituus-mittaukset pohjautuvat jäljitettävyyteen, ja SI-järjestelmän metriin. Atomivoimamikroskooppeja (AFM) käytetään pintojen mittaukseen alle nanometrin erottelukyvyllä. Metrologiset AFM:t (MAFM:t) käyttävät interferometrejä paikan määritykseen, jolloin pinta-mittauksen ovat suo...
| Main Author: | |
|---|---|
| Other Authors: | , , , , , |
| Format: | Master's thesis |
| Language: | eng |
| Published: |
2019
|
| Subjects: | |
| Online Access: | https://jyx.jyu.fi/handle/123456789/62847 |