Characterization and Monte Carlo evaluation of positioning uncertainty of an MAFM
Nanometrin skaalan pituus-mittaukset pohjautuvat jäljitettävyyteen, ja SI-järjestelmän metriin. Atomivoimamikroskooppeja (AFM) käytetään pintojen mittaukseen alle nanometrin erottelukyvyllä. Metrologiset AFM:t (MAFM:t) käyttävät interferometrejä paikan määritykseen, jolloin pinta-mittauksen ovat suo...
| Päätekijä: | |
|---|---|
| Muut tekijät: | , , , , , |
| Aineistotyyppi: | Pro gradu |
| Kieli: | eng |
| Julkaistu: |
2019
|
| Aiheet: | |
| Linkit: | https://jyx.jyu.fi/handle/123456789/62847 |