Low-temperature thermal and plasma-enhanced atomic layer deposition of metal oxide thin films
| Päätekijä: | |
|---|---|
| Aineistotyyppi: | Väitöskirja |
| Kieli: | eng |
| Julkaistu: |
Jyväskylä :
2017.
|
| Sarja: | Research report / Department of Physics, University of Jyväskylä,
2017, 4. |
| Aiheet: | |
| Linkit: | JYX julkaisuarkisto / JYX Digital Archive |
| Huomautukset: | Artikkeliväitöskirjan yhteenveto-osa. |
|---|---|
| Pääsy: | Aineisto on vapaasti saatavissa. |