Development of MeV ion beam lithography technique for microfluidic applications

Bibliographic Details
Main Author: Puttaraksa, Nitipon
Format: Doctoral dissertation
Language:eng
Published: Jyväskylä : 2011.
Series:Research report / Department of Physics, University of Jyväskylä, no. 3/2011.
Subjects:
Online Access:https://jyu.finna.fi/Record/jykdok.1159130

MARC

LEADER 00000cam a22000004i 4500
001 1159130
003 FI-J
005 20210226200847.0
008 110520s2011 fi |||| m |00| 0|eng|c
015 |a fx975336  |2 skl 
020 |a 978-951-39-4266-3  |q nidottu 
035 |a FCC005909837 
035 |a 1159130 
041 0 |a eng  |b tha 
100 1 |a Puttaraksa, Nitipon. 
245 1 0 |a Development of MeV ion beam lithography technique for microfluidic applications /  |c by Nitipon Puttaraksa. 
260 |a Jyväskylä :  |b [University of Jyväskylä],  |c 2011. 
300 |a xii, 65, [56] sivua :  |b kuvitettu ;  |c 25 cm 
336 |a teksti  |b txt  |2 rdacontent 
337 |a käytettävissä ilman laitetta  |b n  |2 rdamedia 
338 |a nide  |b nc  |2 rdacarrier 
490 1 |a Research report / Department of Physics, University of Jyväskylä,  |x 0075-465X ;  |v no. 3/2011 
500 |a Artikkeliväitöskirjan yhteenveto-osa ja 8 eripainosta. 
502 |a Väitöskirja :  |c Jyväskylän yliopisto, matemaattis-luonnontieteellinen tiedekunta, fysiikka. 
530 |a Julkaistu myös verkkoaineistona (ISBN 978-951-39-4267-0). 
579 |a XLUETTELOITU 
591 |i 114 
650 7 |a ionit  |2 yso/fin  |0 http://www.yso.fi/onto/yso/p9015 
653 0 |a ionisuihkulitografia 
830 0 |a Research report / Department of Physics, University of Jyväskylä,  |x 0075-465X ;  |v no. 3/2011. 
852 |a P  |c 0237314 
999 |c 1159130  |d 1159130 
952 |b KANAVUORI  |c 1210  |o P 0237314  |9 1