MeV ion beam lithography of high aspect ratio structures with a focused or aperture-shaped beam for applications in biomedical studies and microfluidics

Bibliografiset tiedot
Päätekijä: Gorelick, Sergey
Aineistotyyppi: Väitöskirja
Kieli:eng
Julkaistu: Jyväskylä : 2008.
Sarja:Research report / Department of Physics, University of Jyväskylä, 9/2008.
Aiheet:
Linkit:https://jyu.finna.fi/Record/jykdok.1069235