Puettava teknologia ja teknostressi

Puettava teknologia, kuten älykellot ja älysormukset, ovat yleistyneet merkittä västi kuluttajamarkkinoilla ja niiden odotetiin ylittävän miljardin laitteen rajan jo vuonna 2022. Tämä teknologia tuo mukanaan uusia mahdollisuuksia, mutta myös haasteita, kuten teknostressiä. Teknostressi, joka tar...

Full description

Bibliographic Details
Main Author: Tinnilä, Toni
Other Authors: Faculty of Information Technology, Informaatioteknologian tiedekunta, University of Jyväskylä, Jyväskylän yliopisto
Format: Master's thesis
Language:fin
Published: 2024
Subjects:
Online Access: https://jyx.jyu.fi/handle/123456789/99105
_version_ 1826225696258654208
author Tinnilä, Toni
author2 Faculty of Information Technology Informaatioteknologian tiedekunta University of Jyväskylä Jyväskylän yliopisto
author_facet Tinnilä, Toni Faculty of Information Technology Informaatioteknologian tiedekunta University of Jyväskylä Jyväskylän yliopisto Tinnilä, Toni Faculty of Information Technology Informaatioteknologian tiedekunta University of Jyväskylä Jyväskylän yliopisto
author_sort Tinnilä, Toni
datasource_str_mv jyx
description Puettava teknologia, kuten älykellot ja älysormukset, ovat yleistyneet merkittä västi kuluttajamarkkinoilla ja niiden odotetiin ylittävän miljardin laitteen rajan jo vuonna 2022. Tämä teknologia tuo mukanaan uusia mahdollisuuksia, mutta myös haasteita, kuten teknostressiä. Teknostressi, joka tarkoittaa teknologian käytöstä johtuvaa stressiä, on yleistyvä ilmiö teknologian lisääntyvän käytön myötä. Tässä tutkielmassa tarkas tellaankin teknostressin käsitettä, sen aiheuttajia ja vaikutuksia yksilöön, sekä puettavan teknologian roolia teknostressin syntymisessä. Tutkielman teoreettisessa osuudessa olemassa olevasta tutkimustiedosta tunnistettiin stressitekijöitä, jotka olivat sidottavissa puettavan teknologian omi naisuuksiin. Näitä tekijöitä tunnistettiin neljä: teknoinvaasio, teknoylikuormitus, teknomonimutkaisuus ja teknoturvattomuus. Tutkielman empiirisessä osuudessa suoritettiin kyselytutkimus, jossa ky symykset olivat johdettu kirjallisuudesta tunnistettujen stressitekijöiden pohjalta. Kyselyyn saatiin 295 hyväksyttyä vastausta, joista kerättyä dataa tukittiin hyö dyntäen SPSS 28-ohjelmaa. Datalle suoritettiin Exploratiivinen faktori analyysi, jonka pohjalta muodostui kolmifaktorinen malli yksilön stressitekijöistä liittyen puettavaan teknologiaan. Muodostetulle mallille tehtiin konfirmatorinen fakto rianalyysi, jolla varmistettiin mallin validius. Tutkimuksen lopputulemana muodostui malli kolmesta stressitekijästä minkä kautta yksilön kokema teknostressi muodostuu heidän käyttäessään pu ettavaa teknologiaa. Asiasanat: teknostressi, puettava teknologia
first_indexed 2024-12-19T21:01:19Z
format Pro gradu
free_online_boolean 1
fullrecord [{"key": "dc.contributor.advisor", "value": "Clements, Kati", "language": null, "element": "contributor", "qualifier": "advisor", "schema": "dc"}, {"key": "dc.contributor.author", "value": "Tinnil\u00e4, Toni", "language": null, "element": "contributor", "qualifier": "author", "schema": "dc"}, {"key": "dc.date.accessioned", "value": "2024-12-19T12:08:08Z", "language": null, "element": "date", "qualifier": "accessioned", "schema": "dc"}, {"key": "dc.date.available", "value": "2024-12-19T12:08:08Z", "language": null, "element": "date", "qualifier": "available", "schema": "dc"}, {"key": "dc.date.issued", "value": "2024", "language": null, "element": "date", "qualifier": "issued", "schema": "dc"}, {"key": "dc.identifier.uri", "value": "https://jyx.jyu.fi/handle/123456789/99105", "language": null, "element": "identifier", "qualifier": "uri", "schema": "dc"}, {"key": "dc.description.abstract", "value": "Puettava teknologia, kuten \u00e4lykellot ja \u00e4lysormukset, ovat yleistyneet merkitt\u00e4 v\u00e4sti kuluttajamarkkinoilla ja niiden odotetiin ylitt\u00e4v\u00e4n miljardin laitteen rajan jo vuonna 2022. T\u00e4m\u00e4 teknologia tuo mukanaan uusia mahdollisuuksia, mutta my\u00f6s haasteita, kuten teknostressi\u00e4. \nTeknostressi, joka tarkoittaa teknologian k\u00e4yt\u00f6st\u00e4 johtuvaa stressi\u00e4, on yleistyv\u00e4 ilmi\u00f6 teknologian lis\u00e4\u00e4ntyv\u00e4n k\u00e4yt\u00f6n my\u00f6t\u00e4. T\u00e4ss\u00e4 tutkielmassa tarkas tellaankin teknostressin k\u00e4sitett\u00e4, sen aiheuttajia ja vaikutuksia yksil\u00f6\u00f6n, sek\u00e4 puettavan teknologian roolia teknostressin syntymisess\u00e4. \nTutkielman teoreettisessa osuudessa olemassa olevasta tutkimustiedosta tunnistettiin stressitekij\u00f6it\u00e4, jotka olivat sidottavissa puettavan teknologian omi naisuuksiin. N\u00e4it\u00e4 tekij\u00f6it\u00e4 tunnistettiin nelj\u00e4: teknoinvaasio, teknoylikuormitus, teknomonimutkaisuus ja teknoturvattomuus. \nTutkielman empiirisess\u00e4 osuudessa suoritettiin kyselytutkimus, jossa ky symykset olivat johdettu kirjallisuudesta tunnistettujen stressitekij\u00f6iden pohjalta. Kyselyyn saatiin 295 hyv\u00e4ksytty\u00e4 vastausta, joista ker\u00e4tty\u00e4 dataa tukittiin hy\u00f6 dynt\u00e4en SPSS 28-ohjelmaa. Datalle suoritettiin Exploratiivinen faktori analyysi, jonka pohjalta muodostui kolmifaktorinen malli yksil\u00f6n stressitekij\u00f6ist\u00e4 liittyen puettavaan teknologiaan. Muodostetulle mallille tehtiin konfirmatorinen fakto rianalyysi, jolla varmistettiin mallin validius. \nTutkimuksen lopputulemana muodostui malli kolmesta stressitekij\u00e4st\u00e4 mink\u00e4 kautta yksil\u00f6n kokema teknostressi muodostuu heid\u00e4n k\u00e4ytt\u00e4ess\u00e4\u00e4n pu ettavaa teknologiaa. \nAsiasanat: teknostressi, puettava teknologia", "language": "fi", "element": "description", "qualifier": "abstract", "schema": "dc"}, {"key": "dc.description.provenance", "value": "Submitted by jyx lomake-julkaisija (jyx-julkaisija.group@korppi.jyu.fi) on 2024-12-19T12:08:08Z\nNo. of bitstreams: 0", "language": "en", "element": "description", "qualifier": "provenance", "schema": "dc"}, {"key": "dc.description.provenance", "value": "Made available in DSpace on 2024-12-19T12:08:08Z (GMT). No. of bitstreams: 0", "language": "en", "element": "description", "qualifier": "provenance", "schema": "dc"}, {"key": "dc.format.extent", "value": "55", "language": null, "element": "format", "qualifier": "extent", "schema": "dc"}, {"key": "dc.format.mimetype", "value": "application/pdf", "language": null, "element": "format", "qualifier": "mimetype", "schema": "dc"}, {"key": "dc.language.iso", "value": "fin", "language": null, "element": "language", "qualifier": "iso", "schema": "dc"}, {"key": "dc.rights", "value": "CC BY 4.0", "language": "en", "element": "rights", "qualifier": null, "schema": "dc"}, {"key": "dc.title", "value": "Puettava teknologia ja teknostressi", "language": null, "element": "title", "qualifier": null, "schema": "dc"}, {"key": "dc.type", "value": "master thesis", "language": null, "element": "type", "qualifier": null, "schema": "dc"}, {"key": "dc.identifier.urn", "value": "URN:NBN:fi:jyu-202412197915", "language": null, "element": "identifier", "qualifier": "urn", "schema": "dc"}, {"key": "dc.contributor.faculty", "value": "Faculty of Information Technology", "language": "en", "element": "contributor", "qualifier": "faculty", "schema": "dc"}, {"key": "dc.contributor.faculty", "value": "Informaatioteknologian tiedekunta", "language": "fi", "element": "contributor", "qualifier": "faculty", "schema": "dc"}, {"key": "dc.contributor.organization", "value": "University of Jyv\u00e4skyl\u00e4", "language": "en", "element": "contributor", "qualifier": "organization", "schema": "dc"}, {"key": "dc.contributor.organization", "value": "Jyv\u00e4skyl\u00e4n yliopisto", "language": "fi", "element": "contributor", "qualifier": "organization", "schema": "dc"}, {"key": "dc.subject.discipline", "value": "Master's Degree Programme in Information Systems", "language": "en", "element": "subject", "qualifier": "discipline", "schema": "dc"}, {"key": "dc.subject.discipline", "value": "Tietoj\u00e4rjestelm\u00e4tieteen maisteriohjelma", "language": "fi", "element": "subject", "qualifier": "discipline", "schema": "dc"}, {"key": "dc.type.coar", "value": "http://purl.org/coar/resource_type/c_bdcc", "language": null, "element": "type", "qualifier": "coar", "schema": "dc"}, {"key": "dc.rights.copyright", "value": "\u00a9 The Author(s)", "language": null, "element": "rights", "qualifier": "copyright", "schema": "dc"}, {"key": "dc.rights.accesslevel", "value": "openAccess", "language": null, "element": "rights", "qualifier": "accesslevel", "schema": "dc"}, {"key": "dc.type.publication", "value": "masterThesis", "language": null, "element": "type", "qualifier": "publication", "schema": "dc"}, {"key": "dc.format.content", "value": "fulltext", "language": null, "element": "format", "qualifier": "content", "schema": "dc"}, {"key": "dc.rights.url", "value": "https://creativecommons.org/licenses/by/4.0/", "language": null, "element": "rights", "qualifier": "url", "schema": "dc"}]
id jyx.123456789_99105
language fin
last_indexed 2025-02-18T10:55:34Z
main_date 2024-01-01T00:00:00Z
main_date_str 2024
online_boolean 1
online_urls_str_mv {"url":"https:\/\/jyx.jyu.fi\/bitstreams\/35e0372c-23fd-429c-a2cd-bb3405bf50e2\/download","text":"URN:NBN:fi:jyu-202412197915.pdf","source":"jyx","mediaType":"application\/pdf"}
publishDate 2024
record_format qdc
source_str_mv jyx
spellingShingle Tinnilä, Toni Puettava teknologia ja teknostressi Master's Degree Programme in Information Systems Tietojärjestelmätieteen maisteriohjelma
title Puettava teknologia ja teknostressi
title_full Puettava teknologia ja teknostressi
title_fullStr Puettava teknologia ja teknostressi Puettava teknologia ja teknostressi
title_full_unstemmed Puettava teknologia ja teknostressi Puettava teknologia ja teknostressi
title_short Puettava teknologia ja teknostressi
title_sort puettava teknologia ja teknostressi
title_txtP Puettava teknologia ja teknostressi
topic Master's Degree Programme in Information Systems Tietojärjestelmätieteen maisteriohjelma
topic_facet Master's Degree Programme in Information Systems Tietojärjestelmätieteen maisteriohjelma
url https://jyx.jyu.fi/handle/123456789/99105 http://www.urn.fi/URN:NBN:fi:jyu-202412197915
work_keys_str_mv AT tinnilätoni puettavateknologiajateknostressi