Transient sputtering method for estimating ion confinement times in ECRIS plasma

Elektronisyklotroniresonanssi-ionilähteillä (ECRIS) tuotetaan korkeasti varattuja ione- ja kiihdytinpohjaisen fysiikan tutkimuksen tarkoituksiin. Pitkät ionien säilöntäajat ovat välttämättömiä korkeasti varattujen ionien tuottamiseksi. Tässä Pro Gradussa testataan transienttimenetelmää ionien säi...

Full description

Bibliographic Details
Main Author: Marttinen, Miha
Other Authors: Matemaattis-luonnontieteellinen tiedekunta, Faculty of Sciences, Fysiikan laitos, Department of Physics, Jyväskylän yliopisto, University of Jyväskylä
Format: Master's thesis
Language:eng
Published: 2018
Subjects:
Online Access: https://jyx.jyu.fi/handle/123456789/59650
Description
Summary:Elektronisyklotroniresonanssi-ionilähteillä (ECRIS) tuotetaan korkeasti varattuja ione- ja kiihdytinpohjaisen fysiikan tutkimuksen tarkoituksiin. Pitkät ionien säilöntäajat ovat välttämättömiä korkeasti varattujen ionien tuottamiseksi. Tässä Pro Gradussa testataan transienttimenetelmää ionien säilöntäaikojen arviomiseksi sputteroimalla. Tutkielmassa esitellään tarpeellinen tausta plasmafysiikalle, ECR-ionilähteelle ominai- sille plasmailmiöille, sekä käytännön menetelmille ionien tuottamiseksi ECR-plasmassa. Kokeellisessa osiossa esitellään sputterointiin perustuva transienttimenetelmä ionien säi- löntäaikojen arvioimiseksi ionivirtojen transienttien aikavakioista. Aikavakioiden riippu- vuus ionilähteen operointiparametreistä analysoidaan nojaten teoreettiseen taustaan, ja sen havaitaan sopivan ionien sähköstaattiseen säilöntämalliin. Lisäksi työssä tutkitaan ionien tuottoaikoja soveltamalla sputterointimetodia nopeassa sputteroinnissa. Tuottoaikoja verrataan ionivirtojen saturaatioaikoihin, joita käytetään tyypillisesti radioaktiivisten ionisuihkujen tuoton rajakriteerinä. Havaitaan, että ionien tuottoajat ovat merkittävästi lyhyempiä kuin saturaatioajat, mikä on radioaktiivisten ionisuihkujen tuoton kannalta tärkeä havainto. Electron Cyclotron Resonance Ion Sources (ECRIS) are used for Highly Charged Ion (HCI) production for accelerator based physics research. A necessary condition for HCI production are long ion confinement times. In this thesis, a transient sputtering method for estimating the confinement times is tested. In this thesis, the necessary background of plasma physics, ECRIS-specific theoretical plasma phenomena, and practicalities of HCI production with the ECRIS are introduced. In the experimental section, a transient sputtering method for estimating ion confinement times based on the ion current transient decay times is presented. The parameter dependence of the decay times is analyzed relying on the theoretical background, and found to be in accordance with the electrostatic ion confinement model. Additionally, the ion production times are probed by applying the sputtering method in a fast sputtering experiment. The production times are compared to the ion current saturation times, which are typically used as limiting criteria for radioactive ion beam production. It is observed, that the ion production times are significantly shorter than the current saturation times, which is an important finding with respect to radioactive beam production.