Kiusaaminen ja kielteinen kohtelu työpaikalla - Saharinen, Elina (2014)
Noin 6 prosenttia suomalaisista palkansaajista on kokenut jatkuvaa kiusaamista työpaikallaan. Tässä tutkimuksessa perehdyttiin kiusaamiseen, sen esiintyvyyteen ja taustatekijöihin tutkimuksen kohdeyrityksessä Kemira Chemicals Oy:n Äetsän tehtaalla. Tarkoituksena oli selvittää, millaista kiusaamista ja kielteistä kohtelua kohdeyrityksessä esiintyy ja mitkä taustatekijät vaikuttavat kiusaamiseen. Lisäksi tutkittiin esimiestyön ja työntekijän omien vaikutusmahdollisuuksien vaikutusta kiusaamiseen. Tutkimus toteutettiin tapaustutkimuksena, ja siinä käytettiin monimenetelmäistä tutkimusotetta. Tutkimusta varten kerättiin kahdenlaista aineistoa: määrällistä aineistoa kyselylomakkein ja laadullista aineistoa teemahaastatteluin. Määrällistä aineistoa analysoitiin käyttäen erilaisia tilastollisia menetelmiä, kuten yksisuuntaista varianssianalyysia. Haastatteluaineiston analyysissa sovellettiin sisällönanalyysia. Tutkimuksessa havaittiin, että kohdeyrityksessä kiusaamista kokee noin 13 prosenttia tutkimuksen kohteena olleista työntekijöistä. Kiusaamisen muotoja esiintyi useita. Eniten havaittiin mielipiteiden huomiottajättämistä, työn kannalta oleellisen tiedon pimittämistä sekä juorujen ja huhujen levittämistä. Mikään yksittäinen taustatekijä ei selittänyt kiusaamisen kohteeksi joutumista. Kiusaamisen taustatekijöinä havaittiin useita persoonaan, sosiaaliseen kanssakäymiseen sekä organisaatioon liittyviä tekijöitä. Tuloksia tulkittiin tutkimuksessa käytetyn teoriamallin avulla. Tutkimuksen johtopäätöksenä kiusaamisen kokemisen todettiin olevan hyvin yksilöllistä. Yhtenä kiusaamisen muotona voitiin tulkita olevan saalistava kiusaaminen, jolloin uhri ei ole tehnyt mitään ärsyttääkseen kiusaajaa, vaan kielteinen kohtelu on kiusaajalähtöistä. Lisäksi tutkimuksessa havaittiin työyhteisöön ja työnantajaan kohdistuvaa kielteistä käyttäytymistä, jonka yksittäiset työntekijät saattoivat tulkita kiusaamiseksi. Kiusaaminen vaikutti kielteisesti työyhteisön ilmapiiriin.