Development of MeV ion beam lithography technique for microfluidic applications

Bibliographic Details
Main Author: Puttaraksa, Nitipon
Format: Doctoral dissertation
Language:eng
Published: Jyväskylä : 2011.
Series:Research report / Department of Physics, University of Jyväskylä, no. 3/2011.
Subjects:
Online Access:http://urn.fi/URN:ISBN:978-951-39-4267-0

MARC

LEADER 00000cam a2200000 i 4500
001 1185836
003 FI-J
005 20210226210439.0
006 m d
007 cr nuu|||uuuuu
008 111021s2011 fi |||||sm |||||||eng|
020 |a 978-951-39-4267-0  |q PDF 
035 |a FCC005949636 
035 |a 1185836 
041 0 |a eng  |b tha 
100 1 |a Puttaraksa, Nitipon. 
245 1 0 |a Development of MeV ion beam lithography technique for microfluidic applications /  |c by Nitipon Puttaraksa. 
260 |a Jyväskylä :  |b University of Jyväskylä,  |c 2011. 
300 |a verkkoaineisto (136 sivua). 
336 |a teksti  |b txt  |2 rdacontent 
337 |a tietokonekäyttöinen  |b c  |2 rdamedia 
338 |a nide  |b nc  |2 rdacarrier 
338 |a verkkoaineisto  |b cr  |2 rdacarrier 
490 1 |a Research report / Department of Physics, University of Jyväskylä,  |x 0075-465X ;  |v no. 3/2011 
500 |a Artikkeliväitöskirjan yhteenveto-osa ja 8 eripainosta. 
502 |a Väitöskirja :  |c Jyväskylän yliopisto, matemaattis-luonnontieteellinen tiedekunta, fysiikka. 
530 |a Julkaistu myöspainettuna (ISBN 978-951-39-4266-3). 
538 |a Internet-yhteys, WWW-selain, Adobe Reader. 
579 |a XLUETTELOITU 
591 |i 114 
650 7 |a ionit  |2 yso/fin  |0 http://www.yso.fi/onto/yso/p9015 
653 0 |a ionisuihkulitografia 
830 0 |a Research report / Department of Physics, University of Jyväskylä,  |x 0075-465X ;  |v no. 3/2011. 
856 4 0 |u http://urn.fi/URN:ISBN:978-951-39-4267-0  |u URN:ISBN:978-951-39-4267-0  |q pdf 
999 |c 1185836  |d 1185836