|
|
|
|
LEADER |
00000cam a2200000 i 4500 |
001 |
1185836 |
003 |
FI-J |
005 |
20210226210439.0 |
006 |
m d |
007 |
cr nuu|||uuuuu |
008 |
111021s2011 fi |||||sm |||||||eng| |
020 |
|
|
|a 978-951-39-4267-0
|q PDF
|
035 |
|
|
|a FCC005949636
|
035 |
|
|
|a 1185836
|
041 |
0 |
|
|a eng
|b tha
|
100 |
1 |
|
|a Puttaraksa, Nitipon.
|
245 |
1 |
0 |
|a Development of MeV ion beam lithography technique for microfluidic applications /
|c by Nitipon Puttaraksa.
|
260 |
|
|
|a Jyväskylä :
|b University of Jyväskylä,
|c 2011.
|
300 |
|
|
|a verkkoaineisto (136 sivua).
|
336 |
|
|
|a teksti
|b txt
|2 rdacontent
|
337 |
|
|
|a tietokonekäyttöinen
|b c
|2 rdamedia
|
338 |
|
|
|a nide
|b nc
|2 rdacarrier
|
338 |
|
|
|a verkkoaineisto
|b cr
|2 rdacarrier
|
490 |
1 |
|
|a Research report / Department of Physics, University of Jyväskylä,
|x 0075-465X ;
|v no. 3/2011
|
500 |
|
|
|a Artikkeliväitöskirjan yhteenveto-osa ja 8 eripainosta.
|
502 |
|
|
|a Väitöskirja :
|c Jyväskylän yliopisto, matemaattis-luonnontieteellinen tiedekunta, fysiikka.
|
530 |
|
|
|a Julkaistu myöspainettuna (ISBN 978-951-39-4266-3).
|
538 |
|
|
|a Internet-yhteys, WWW-selain, Adobe Reader.
|
579 |
|
|
|a XLUETTELOITU
|
591 |
|
|
|i 114
|
650 |
|
7 |
|a ionit
|2 yso/fin
|0 http://www.yso.fi/onto/yso/p9015
|
653 |
|
0 |
|a ionisuihkulitografia
|
830 |
|
0 |
|a Research report / Department of Physics, University of Jyväskylä,
|x 0075-465X ;
|v no. 3/2011.
|
856 |
4 |
0 |
|u http://urn.fi/URN:ISBN:978-951-39-4267-0
|u URN:ISBN:978-951-39-4267-0
|q pdf
|
999 |
|
|
|c 1185836
|d 1185836
|