Point-defect mediated diffusion in intrinsic SiGe-alloys

Bibliographic Details
Main Author: Riihimäki, Iiro
Format: Doctoral dissertation
Language:eng
Published: Jyväskylä : 2010.
Series:Research report / Department of Physics, University of Jyväskylä, no. 2/2010.
Online Access:http://urn.fi/URN:ISBN:978-951-39-3796-6

MARC

LEADER 00000cam a2200000 i 4500
001 1124189
003 FI-J
005 20210226185100.0
006 m d
007 cr nuu---uuuuu
008 100302s2010 fi |||||sm |||||||eng|
020 |a 978-951-39-3796-6  |q PDF 
035 |a FCC005684311 
035 |a 1124189 
041 0 |a eng 
100 1 |a Riihimäki, Iiro. 
245 1 0 |a Point-defect mediated diffusion in intrinsic SiGe-alloys /  |c by Iiro Riihimäki. 
260 |a Jyväskylä :  |b University of Jyväskylä,  |c 2010. 
300 |a 67 sivua 
336 |a teksti  |b txt  |2 rdacontent 
337 |a tietokonekäyttöinen  |b c  |2 rdamedia 
338 |a verkkoaineisto  |b cr  |2 rdacarrier 
502 |a Väitöskirja  |c Jyväskylän yliopisto, fysiikka. 
530 |a Julkaistu myös painettuna (ISBN 978-951-39-3795-9). 
538 |a Internet-yhteys, WWW-selain, Adobe Reader. 
579 |a XLUETTELOITU 
591 |i 114 
830 0 |a Research report / Department of Physics, University of Jyväskylä,  |x 0075-465X ;  |v no. 2/2010. 
856 4 |u http://urn.fi/URN:ISBN:978-951-39-3796-6  |u URN:ISBN:978-951-39-3796-6  |q pdf 
999 |c 1124189  |d 1124189