Point-defect mediated diffusion in intrinsic SiGe-alloys

Bibliografiset tiedot
Päätekijä: Riihimäki, Iiro
Aineistotyyppi: Väitöskirja
Kieli:eng
Julkaistu: Jyväskylä : 2010.
Sarja:Research report / Department of Physics, University of Jyväskylä, no. 2/2010.
Linkit:http://urn.fi/URN:ISBN:978-951-39-3796-6
Kuvaus
Aineistotyyppi:Internet-yhteys, WWW-selain, Adobe Reader.