Point-defect mediated diffusion in intrinsic SiGe-alloys

Bibliografiset tiedot
Päätekijä: Riihimäki, Iiro
Aineistotyyppi: Väitöskirja
Kieli:eng
Julkaistu: Jyväskylä : 2010.
Sarja:Research report / Department of Physics, University of Jyväskylä, 2010, 2.
Aiheet:
Linkit:https://jyu.finna.fi/Record/jykdok.1123441
Kuvaus
Huomautukset:Artikkeliväitöskirjan yhteenveto-osa ja 4 eripainosta.