Development of negative ion sources for accelerator, fusion and semiconductor manufacturing applications

Bibliografiset tiedot
Päätekijä: Hahto, Sami
Aineistotyyppi: Väitöskirja
Kieli:eng
Julkaistu: Jyväskylä : 2003.
Sarja:Research report / Department of Physics, University of Jyväskylä, no. 4/2003.
Linkit:http://urn.fi/URN:ISBN:978-951-39-3142-1
Kuvaus
Aineistotyyppi:Internet-yhteys, WWW-selain, Adobe Reader.